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SnO2掺杂IrO2-Ta2O5涂层阳极的电催化活性及稳定性

徐海清 , 胡耀红 , 陈力格 , 钟洪胜 , 张招贤

电镀与涂饰

采用热分解法制备了不同SnO2含量(Sn摩尔分数为7.7%、14.3%和20.0%)的Ti基IrO2-Ta2O5-SnO2涂层阳极(Ir与Ta的摩尔比为2∶1),通过循环伏安法、极化曲线测试和交流阻抗谱分析了涂层的电催化活性,采用强化寿命试验测试了阳极的耐腐蚀性能。结果表明,掺杂 SnO2后,Ti 基 IrO2-Ta2O5涂层阳极的催化活性表面积增大,但是析氧电位及涂层的总电阻也增大,耐腐蚀性能降低。SnO2含量为7.7%时综合电催化性能最佳。

关键词: 二氧化铱 , 五氧化二钽 , 二氧化锡 , 涂层 , 析氧阳极 , 钛基 , 电催化活性 , 热分解

Ti6Al4V表面磁控溅射高硬SiC薄膜的摩擦磨损性能

潘应晖 , 许晓静

材料工程 doi:10.3969/j.issn.1001-4381.2013.06.013

采用室温磁控溅射技术在Ti6A14V表面制备出高硬SiC薄膜,对其组织结构、纳米压痕行为和摩擦磨损性能进行了研究.结果表明:实验制备的SiC薄膜呈非晶态,其纳米硬度、弹性模量分别为26.8GPa和229.4GPa;在以氮化硅球(半径为2mm)为对摩件的室温Kokubo人体模拟体液下,其磨损速率在10-5 mm3 m-1 N-1级,载荷低(50g)时摩擦因数约为0.173,载荷高(200g)时摩擦因数约为0.280,此时薄膜自身发生局部破裂.

关键词: 钛基材 , 薄膜 , 纳米压痕 , 摩擦磨损 , 磁控溅射

纯钛表面制备钛酸钡薄膜的技术参数研究

王慧 , 吴文慧 , 岳奇 , 陈浩哲 , 杨红光

表面技术

目的 探讨在纯钛基片上制备钛酸钡薄膜的技术参数,为增强钛瓷结合强度奠定研究基础.方法 以碳酸钡和钛酸丁酯为原料,利用溶胶-凝胶法在纯钛基片上制备钛酸钡薄膜,对比不同浓度溶胶、不同干燥机制条件下制备的薄膜的质量.结果 180℃干燥、380℃热处理、升温速率6℃/min和120℃干燥、300℃热处理、升温速率3℃/min两种条件相比,前一种条件制备的薄膜退火后开裂程度大.采用0.3 mol/L钛酸钡溶胶,在后一种条件下制备的薄膜基本完好,无裂纹;而采用0.35 mol/L钛酸钡溶胶,在相同条件下制备的薄膜裂纹较明显.结论 采用0.3 mol/L钛酸钡溶胶,在120℃干燥、300℃热处理、升温速率3℃/min的条件下制备薄膜,薄膜质量最佳.

关键词: 纯钛基片 , 钛酸钡薄膜 , 溶胶-凝胶法 , 制备参数

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